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  • HERCULESEVG量產(chǎn)型光刻機系統(tǒng)

    光刻機Track系統(tǒng)通過集成的生產(chǎn)系統(tǒng)和結(jié)合掩模對準和曝光以及集成的預處理和后處理的高度自動化功能,完善了EVG光刻機產(chǎn)品系列。HERCULES光刻機Track系統(tǒng)基于模塊化平臺,將EVG已建立的光學掩模對準技術(shù)與集成的清潔,光刻膠涂層,烘烤和光刻膠顯影模塊相結(jié)合。將HERCULES平臺變成了“一站式服務(wù)”,在這里將經(jīng)過預處理的晶圓裝載到工具中,然后將結(jié)構(gòu)化的經(jīng)過處理的晶圓退回。

    更新時間:2025-05-20
    型號:HERCULES
    廠商性質(zhì):代理商
    瀏覽量:4875
  • IQ Aligner NTEVG儀器自動掩模對準系統(tǒng)

    ?新型IQ Aligner NT具有高強度和高均勻度的曝光光學器件,新的晶圓處理硬件,可實現(xiàn)全局多點對準的200mm和300mm晶圓全覆蓋范圍以及優(yōu)化的工具軟件,從而使生產(chǎn)率提高了2倍與EVG上一代IQ Aligner相比,對準精度提高了2倍。該系統(tǒng)超越了晶圓凸塊和其他后端光刻應(yīng)用的蕞苛刻要求,同時與競爭系統(tǒng)相比,擁有成本降低了30%。

    更新時間:2025-05-20
    型號:IQ Aligner NT
    廠商性質(zhì):代理商
    瀏覽量:2367
  • EVG6200 NT掩模對準光刻系統(tǒng)

    EVG6200 NT掩模對準光刻系統(tǒng) 特色:EVG ® 6200 NT掩模對準器為光學雙面光刻的多功能工具和晶片尺寸高達200毫米。

    更新時間:2024-11-09
    型號:
    廠商性質(zhì):代理商
    瀏覽量:4022
  • IQ Aligner 自動掩模對準系統(tǒng)

    IQ Aligner 自動掩模對準系統(tǒng) 用于自動非接觸近距離掩模對準光刻,進行了處理和優(yōu)化,用于晶圓片的尺寸高達200毫米。

    更新時間:2024-11-09
    型號:
    廠商性質(zhì):代理商
    瀏覽量:2908
  • EVG610EVG單面/雙面掩模對準光刻機

    EVG單面/雙面掩模對準光刻機EVG610(單面/雙面掩模對準光刻機 微流控 納米壓印)支持各種標準光刻工藝,如真空,硬,軟接觸和接近式曝光模式,可選擇背部對準方式。此外,該系統(tǒng)還提供其他功能,包括鍵合對準和納米壓印光刻(NIL)。EVG610提供快速處理和重新加工,以滿足不斷變化的用戶需求,轉(zhuǎn)換時間不到幾分鐘。其先進的多用戶概念適合初學者到專家級各個階層用戶,非常適合大學和研發(fā)應(yīng)用。

    更新時間:2024-11-09
    型號:EVG610
    廠商性質(zhì):代理商
    瀏覽量:10221
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